현재 사용할 수 있는 Arpelier 기능

공정 흐름 편집

공정 단계를 만들고 순서를 정하며 그룹으로 묶고 수정하거나 계산에서 제외할 수 있습니다. 각 공정의 재료, 마스크, 두께, 형상과 세부 조건을 조절할 수 있으며, 앞 단계를 변경하면 영향을 받는 이후 구조가 다시 계산됩니다.

지원 공정 종류

공개 편집기에서는 아래 공정을 선택할 수 있습니다. 선택할 수 있는 조건은 공정마다 다르며, 형상 모델은 모든 장비와 재료 거동을 표현하는 것이 아니라 명시된 범위 안에서 작동합니다.

SUBSTRATE

공정 흐름의 시작 구조가 되는 기판을 만듭니다.

• 파라미터: 기판 타입과 두께

WAFER BONDING

저장된 최종 구조를 현재 구조 위에 배치하고 독립된 첨부로 보존합니다.

• 파라미터: 원본 프로젝트, 배치 위치, 뒤집기, 격자 분할·영역 확장 동의, 선택적 접합면 평탄화

DEPOSITION

선택한 재료를 현재 구조 위에 증착하며, 필요한 경우 마스크 영역을 적용합니다.

• 파라미터: 재료, 마스크, 두께
• 상세 파라미터: 등방성(측방 성장 비율)

ALD

원자층 증착 막을 형성하며 균일 성장 또는 핵생성 기반의 표면 성장을 모델링할 수 있습니다.

• 파라미터: 재료, 시드 재료, 두께
• 상세 파라미터: 3D 등방성 해석, 막 형성 모델, 표면 거칠기, 난수 시드, 초기 핵 피복률, 추가 핵생성률, 초기 핵 크기, cycle 성장량

SPIN COATING

선택한 재료를 구조 위에 도포해 스핀 코팅 층을 형성합니다.

• 파라미터: 재료와 두께

PARTICLE

크기, 재료와 입사 방향 조건을 지정해 구조 위에 파티클을 배치합니다.

• 파라미터: 파티클 재료, 시드 재료, 파티클 개수, 파티클 지름
• 상세 파라미터: 지름 편차, 접촉각, 입사각 범위, 입사 방향성 지수, 궤적 표시, 랜덤 시드

ETCH

선택한 재료를 지정 깊이만큼 제거하며 마스크와 방향성 프로파일을 적용할 수 있습니다.

• 파라미터: 식각 재료, 마스크, 깊이
• 상세 파라미터: Positive Taper(측벽 테이퍼), Bowing 비율

WET ETCH

습식 식각 형상 모델로 선택한 재료를 제거합니다.

• 파라미터: 식각 재료, 깊이, 심 임계값

CMP

현재 최고점에서 지정한 제거량만큼 내린 평면까지 평탄화하며, 선택한 정지막 재료의 상단에서 제한됩니다.

• 파라미터: 최고점 기준 제거량, 정지막 재료
• 상세 파라미터: dishing 대상 재료, dishing 정도

STRIP

현재 구조에서 선택한 재료를 제거합니다.

• 파라미터: 제거할 재료

PHOTO

마스크로 정의한 포토 패턴을 만들고 단순화된 광학 효과와 OPC를 적용할 수 있습니다.

• 파라미터: 마스크, 두께
• 상세 파라미터: 광학 효과, 광원 파장, 개구수, 노광 임계값, corner/edge correction

IMPLANTATION

주입 깊이와 확산 조건을 지정해 도핑 영역을 만듭니다.

• 파라미터: 도핑 유형, 마스크, 시드 두께
• 상세 파라미터: 주입 깊이, 깊이 퍼짐, 확산 거리, 기존 도핑 확산 여부

OXIDATION

적용 가능한 원재료로부터 산화 영역을 성장시킵니다.

• 파라미터: 산화 두께

MODIFICATION

선택한 원재료를 결과 재료로 변환하고 부피와 반응 방향에 따른 형상 변화를 반영합니다.

• 파라미터: 원재료, 결과 재료, 원재료 소모 두께, 부피 변환비
• 상세 파라미터: 반응 방향성

마스크와 재료

도형과 배열, 정렬 기능을 이용해 마스크를 만들고 편집한 뒤 적용 가능한 공정에 지정할 수 있습니다. 프로젝트 재료를 만들고 설명과 화면 표시 속성을 편집하며 지원되는 공정의 입력으로 사용할 수 있습니다.

3D 구조와 단면

생성된 3D 구조를 회전하고 확대하며 X·Y·Z 방향의 2D 단면을 확인하거나 범위를 선택해 3D 절단 구조를 볼 수 있습니다. 카메라, 단면 위치, 표현 방식, 조명과 그림자 같은 표시 설정은 계산된 구조를 바꾸지 않고 관찰 방법만 조절합니다.

구조 탐색기와 네 가지 탐색 모드

3D 구조와 2D 단면에서 구성, 유래, 변화, 연결 모드를 전환할 수 있습니다. 구성은 재료, 유래는 각 영역의 최초 생성 단계, 변화는 단계 사이 추가·제거·재료 변경, 연결은 금속과 선택한 반도체 재료의 기하학적 연결 노드를 탐색 단위로 사용합니다. 선택한 영역은 가능한 범위에서 모드 사이에 이어지며 각 단위를 강조하거나 투명하게 만들 수 있습니다. 자세한 정의와 한계는 구조 탐색기에서 확인할 수 있습니다.

공정 단계, 공정 시점과 저장 화면

공정 단계와 중간 시점을 이동하며 구조가 어떻게 변하는지 비교할 수 있습니다. 저장된 구조 시점과 화면 상태는 유용한 장면으로 돌아가거나 설명 순서를 구성할 때 활용할 수 있습니다.

프로젝트, 접근 권한과 공유

로그인한 사용자는 클라우드에 프로젝트를 저장하거나 복제할 수 있습니다. 클라우드 프로젝트는 비공개, 공개, 공개 + Listed 접근을 지원합니다. 공개이면서 Listed가 꺼진 프로젝트는 링크로 열 수 있지만 Explore와 검색에는 표시되지 않습니다. 소유자는 접근 범위를 바꾸고, 역할을 지정해 공동 작업자를 추가하며, 링크나 QR 코드로 공유할 수 있습니다. 로컬 프로젝트의 파일 보관 방식과 접근 조건은 별도로 적용됩니다.

로컬 프로젝트 파일

클라우드는 접근 권한을 관리하며 여러 기기에서 저장본을 여는 방식이고, 로컬은 프로젝트를 암호화된 .apl 파일로 직접 보관하는 방식입니다. 로컬의 이후 편집 내용과 구조 캐시는 서버 프로젝트에 업로드하지 않습니다. 로그인 확인과 암호화 키 취득에는 온라인 연결이 필요하며 파일과 백업은 직접 관리합니다.

1. 새 프로젝트의 저장 위치에서 이 컴퓨터를 선택하거나, 현재 프로젝트의 제목 옆 저장 위치 아이콘에서 이 컴퓨터를 선택합니다.
2. 대시보드의 새 프로젝트 옆 폴더 아이콘을 열어 파일을 선택하거나 넓은 영역에 놓습니다. 대시보드 자체에 .apl 파일 하나를 놓아도 열립니다.
3. 지원되는 브라우저에서는 저장 아이콘으로 같은 파일을 갱신하고 다른 이름으로 저장할 수 있습니다. 다운로드만 가능한 환경에서는 완료를 확인할 수 없어 변경 표시를 유지합니다.

파일은 공정과 현재 스냅샷, 마스크, 재료, 캔버스·보기·탐색 설정, 갤러리·모션, 분기와 압축 구조 캐시를 포함합니다. 클라우드와 같은 체크포인트 선정 정책으로 현재 계산 결과와 이미 계산된 마지막 단계, 재계산 절감 효과가 있는 추가 단계를 용량 안에서 선택합니다. 캐시는 전체 40 MiB·한 개 32 MiB 이내이며 저장 때문에 미계산 단계를 새로 계산하지 않습니다. 원본 공정·영역·엔진 조건과 맞는 캐시는 재사용하고 나머지는 다시 계산합니다.

소유한 클라우드 프로젝트에서 파일을 만들면 그 시점의 소유자·지정 조회자·편집자 권한을 보존합니다. 받는 사람에게 .apl 파일을 전달하면 각자 권한이 있는 계정으로 로그인해 엽니다. 조회자는 결과를 확인할 수 있지만 Arpelier에서 편집·저장할 수 없습니다. 이후 클라우드 권한 변경은 기존 파일에 반영되지 않으며 이미 전달한 사본의 과거 권한을 회수할 수 없습니다. 이메일 초대는 일치하는 이메일의 인증을 완료해야 하며, 불특정 공개 방문자나 링크 소지자는 자동 포함하지 않습니다.

새 로컬 프로젝트·다른 소유자 프로젝트의 개인 사본·기존 v1/v2 파일은 만든 계정만 접근합니다. 기존 파일을 다시 저장하면 형식을 갱신하지만 누락된 공유 권한을 새로 만들지는 않습니다. 원본 권한을 보존하려면 소유한 클라우드 원본에서 다시 파일로 저장해야 합니다. 공개·비공개·Listed 설정은 클라우드에서만 사용할 수 있습니다. URL의 #local_…은 로컬 작업 화면을 식별하는 표시이며, 파일 경로나 공유 링크가 아닙니다. 새로고침 뒤에는 파일을 다시 선택해야 합니다.

소유 클라우드 프로젝트를 로컬로 전환하면 파일 저장과 읽기 검증 뒤 원본을 기존 휴지통으로 옮깁니다. 휴지통의 서버 데이터에는 기존 30일 보관·복원 정책이 적용됩니다. 로컬 사본 저장은 원본을 유지하며, 다운로드 완료 미확인·참고 예제·다른 소유자의 원본은 휴지통으로 옮기지 않습니다. 로컬 파일과 복원한 클라우드 원본은 자동 동기화되지 않습니다.

캡처, 갤러리와 발표 자료

표시된 2D 단면이나 3D 화면을 복사해 다른 자료에 사용할 수 있습니다. 갤러리는 구조 장면과 설명을 순서대로 구성하는 보조 발표 작업공간이며, 갤러리 순서를 PowerPoint 파일로 내보낼 수도 있습니다. 이 기능은 소통을 돕지만 공정 구조 계산의 핵심 모델은 아닙니다.

게스트와 모바일 이용 범위

방문자는 로그인하지 않아도 공식 예제와 자신이 접근할 수 있는 프로젝트를 살펴볼 수 있습니다. 모바일에서는 기존 프로젝트를 확인하고 제한된 임시 조정을 할 수 있는 미리보기 중심 화면을 제공합니다. 변경 내용은 저장되지 않으며 모바일에서 새 프로젝트를 만드는 기능은 현재 제공하지 않습니다. 전체 편집 흐름은 데스크톱에서 이용할 수 있습니다.

계산 범위

Arpelier는 지원되는 공정에 따른 형상 변화를 계산하고 그 결과에서 재료, 생성 출처, 단계 차이와 기하학적 연결을 탐색합니다. 계산 시간과 일부 탐색 모드의 준비 시간은 구조 복잡도와 격자 해상도에 따라 달라질 수 있습니다. 공개 기능은 전기적 특성의 정량 예측, 장비 단위 레시피 예측이나 실제 제작 결과 보증을 뜻하지 않습니다.